ICP光谱分析仪厂家

钢研纳克“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目顺利通过验收

2016年4月12日，北京市科学技术会在钢研纳克永丰产业基地主持召开了国家重大科学仪器设备开发专项“ICP痕量分析仪器的研制与应用”项目(项目编号2011YQ140147)初步验收会议。

本次初步验收会由李建玲处长主持，会议成立了项目初步验收技术组，金国藩院士作为组组长。组听取了项目及各承担单位的汇报，审阅了相关资料，进行了现场检查，经质询和讨论，终形成了验收评审意见。

和一致认为项目验收材料齐全、规范，符合验收要求。项目成功开发出具有自主知识产权的ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪两种痕量分析仪器整机，实现推广应用;了ICP射频源、四极杆射频源、激光烧蚀固体直接进样系统、多位自动进样装置、基于中阶梯光栅和大面积CCD采集的高分辨二维分光系统、碰撞反应池、中阶梯光栅刻划、四极杆等关键部件、关键技术及元器件技术和工艺难题;针对国内用户的普遍特点和特殊需求，ICP光谱分析仪厂家，在仪器中集成了多功能开放性软件、谱线和分析方法数据库，提升国产分析仪器的国际竞争力。项目执行期内共完成了分析方法、应用、对比报告51篇，形成行业标准8项，38项(其中授权19项)，软件著作权4项，发表65篇。项目预期目标全部实现。

在工程化和产业化方面，项目牵头单位已经在永丰建成ICP光谱仪、ICP质谱仪产业基地，将可靠性管理的理论、工具、方法和装备应用于分析仪器开发的全流程，建立了完整的质量管理体系，建设了ICP射频源、激光烧蚀进样系统、ICP全谱光谱仪、ICP质谱仪4条生产线。ICP全谱光谱仪已经获得生产许可证书，产品已经销售至宁夏、浙江、山东、新疆、湖南、河南及国外(伊朗)等地，产品经过安装和调试，均顺利通过验收。

Plasma2000型电感耦合等离子体发射光谱仪是钢研纳克“国家重大科学仪器设备开发专项”成果。采用中阶梯光栅光学结构和科研级CCD检测器实现全谱采集。仪器稳定性好、检测限低、快速分析、运行成本低。

钢研纳克Plasma2000 全谱电感耦合等离子体发射光谱仪可用于地质、冶金、稀土及磁材料、环境、卫生、生物、海洋、石油、化工新型材料、核工业、农业、食品商检、水质等各领域及学科的样品分析。可以快速、准确地检测从微量到常量约70种元素。

钢研纳克Plasma 2000 全谱ICP光谱仪参数

1. 光学系统：中阶梯二维分光光学系统，焦距400mm

2. 谱线范围：165nm~900nm，光学分辨率：0.007nm（200nm处）

3. 光栅规格：中阶梯光栅，52.67刻线/毫米，尺寸：100mm x 50mm

4. 晶体管固态射频发生器，小巧有效

5. 40.68MHz频率提高信噪比，改善了检出限

6. 自动匹配调节

7. 全组装式炬管，降低了维护成本

8. 计算机控制可变速10滚轴四道或两道蠕动泵，具有快速清洗功能

9. 实验数据稳定性良好：重复性

RSD ≤0.5% (1mg/L) （n=10）；稳定性：RSD

≤2.0%（大于3小时）